カスタム設計ツール群が対応したことを認証したと発表した。IIを用いて最先端のテクノロジ・ノードのメリットを最大限活用することが可能となる。Format(LVF)で定義されたパラメトリック・オンチップ・バリエーション(POCV)テクノロジや、(最先端ノードでの波形の歪みを正確にモデル化する)最先端・波形伝播(AWP)テクノロジといった主要な要件に対応している。あらゆる設計段階で求められるデザイン・ルールや要件(カットメタル考慮や信頼性など)に対応していることが実証されている。次のように述べている。テクノロジ・サポートに向けた今回の協業により、この最新のプロセスの活用に必要な要件に対応できるようになりました。氏は次のように語っている。プロセスで長年に渡って協業を進めています。プロセス認証を取得したツール群は以下のとおり。Software)をカバーするソリューションを提供している。ソフトウェア・カンパニーとなっている。シノプシスは、最先端の半導体を開発しているSoC(system-on-chip)設計者、最高レベルの品質とセキュリティが要求されるアプリケーション・ソフトウェアの開発者に、高品質で信頼性の高い革新的製品の開発に欠かせないソリューションを提供している。Inc.の登録商標です。その他の商標や登録商標は、それぞれの所有者の知的財産です。