[1](a)一般式(1)[化1](式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を減圧乾燥したものであることを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物。[2](a)一般式(1)[化2](式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物を含む溶液を減圧乾燥し、得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加したものであることを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物。[3]前記減圧乾燥を-30°C~-60°Cで行うことを特徴とする、請求項1または2記載の固形化した洗浄剤組成物。[4]上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)のR1は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、R4は炭素原子数1ないし6の低級アルキレン基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基またはアルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[5]上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)が、オクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、オクタデシルジエチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(2-トリメチルシリルエチル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジプロピル(4-トリメトキシシリルブチル)アンモニムアセテート、オクタデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロポキシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリエチルシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、オクタデシルジメチル(3-トリイソプロピルシシリルプロビル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、ヘプタデシルジイソプロピル(2-トリエトキシシリルエチル)アンモニウムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムクロライド、ヘキサデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニムアセテートおよびペンタサデシルジメチル(3-トリエトキシシリルプロピル)アンモニムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種のケイ素含有化合物であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[6]上記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物(a)が、オクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライドである請求項1ないし5のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[7]上記陽イオン界面活性剤(b1)が、下記一般式(2)[化3](式中、R11は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R12、R13およびR14は同一でも異なってもよい低級炭化水素基を示す)で表される陽イオン界面活性剤(b11)および/またはN-ココイル-アルギニンエチルエステルピリドンカルボン酸塩(b12)であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[8]上記一般式(2)で表される上記陽イオン界面活性剤(b11)のR11は炭素原子数10~25のアルキル基を示し、R12、R13およびR14は同一または異なっていてもよい炭素原子数1ないし6の低級アルキル基を示し、Yがハロゲンイオンまたは有機カルボニルオキシイオンであることを特徴とする請求項7に記載の固形化した洗浄剤組成物。[9]上記陽イオン界面活性剤(b11)がデシルトリメチルアンモニウムクロライド、デシルトリエチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリメチルアンモニウムアセテート、ドデシルトリイソプロピルアンモニウムブロマイド、トリデシルトリエチルアンモニウムプロマイド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ペンタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリエチルアンモニウムクロライドおよびオクタデシルトリ-n-プロピルアンモニウムクロライドからなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項7または8に記載の固形化した洗浄剤組成物。[10]上記陽イオン界面活性剤(b1)が、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライドであることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[11]上記非イオン界面活性剤(b2)が、ポリオキシエチレン単位および/またはポリオキシプロピレン単位を含有するポリオキシアルキレングリコールのアルキルエーテルまたは脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよび脂肪酸モノグリセライドからなる群から選ばれた少なくとも1種の非イオン系界面活性剤であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[12]上記非イオン界面活性剤(b2)は、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートであることを特徴とする請求項1ないし6、11のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[13]上記ケイ素含有化合物(a)としてオクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、および上記陽イオン界面活性剤(b1)としてヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライドを含有することを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[14]上記ケイ素含有化合物(a)としてオクタデシルジメチル(3-トリメトキシシリルプロピル)アンモニウムクロライド、および上記非イオン界面活性剤(b2)としてポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートを含有することを特徴とする請求項1ないし6、11ないし12のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[15]必要に応じて更に炭素数10以下の低級アルコールを含有することを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[16]前記低級アルコールが炭素数5以下のアルコールであることを特徴とする請求項15に記載の固形化した洗浄剤組成物。[17]前記低級アルコールがエタノール、t-ブチルアルコール、プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、tert-ブチルアルコールおよびペンチルアルコールからなる群から選ばれたものであることを特徴とする請求項15または16に記載の固形化した洗浄剤組成物。[18]水道水に再溶解可能であることを特徴とする請求項1ないし17のいずれか1項に記載の固形化した洗浄剤組成物。[19](a)一般式(1)[化4](式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を調製する工程、および該溶液を減圧乾燥する工程を有することを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物の製造方法。[20](a)一般式(1)[化5](式中、R1は炭素原子数6以上の炭化水素基を示し、R2およびR3は同一または異なっていてもよい低級炭化水素基を示し、R4は二価の低級炭化水素基を示し、R5、R6およびR7は同一または異なっていてもよい低級アルキル基または低級アルコシ基を示し、Xはハロゲンイオンまたは有機カルボキニルオキシイオンを示す)で表されるケイ素含有化合物の溶液を減圧乾燥する工程、および上記工程で得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加する工程を有することを特徴とする、固形化した洗浄剤組成物の製造方法。[21]前記減圧乾燥を、-30°C~-60°Cで行うことを特徴とする、請求項19または20に記載の方法。[22]必要に応じて前記溶液に更に炭素数10以下の低級アルコールを添加する工程を有することを特徴とする、請求項19~21のいずれか1項に記載の方法。前記ケイ素含有化合物に、(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加した溶液を調製する工程、および該溶液を減圧乾燥する工程を有することを特徴とする、前記ケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法。前記ケイ素化合物の溶液を減圧乾燥する工程、および上記工程で得られた減圧乾燥物に(b)陽イオン界面活性剤(ただし、上記ケイ素化合物を除く)(b1)および非イオン界面活性剤(b2)からなる群から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤を添加する工程を有することを特徴とする、前記ケイ素含有化合物のゲル化を防止する方法。[25]前記減圧乾燥を、-30°C~-60°Cで行うことを特徴とする、請求項23または24に記載の方法。[26]必要に応じて前記溶液に更に炭素数10以下の低級アルコールを添加する工程を有することを特徴とする、請求項23~25のいずれか1項に記載の方法。