Spray)この項に関するご意見は広報委員会までお寄せください。「溶射とは?」に戻る「溶射用語集」に戻る1980年代にロシア科学アカデミーで開発された溶射法で,最近,アメリカ,ドイツを中心に開発,実用化の研究が行われている。溶射材料の融点または軟化温度より低い温度に加熱(300~900°C程度)したガスを先細末広(ラバル)ノズルにより超音速流にして,その流れの中に溶射粒子を投入にて加速させ,固相状態のまま基材に高速で衝突させて皮膜を形成する技術。ガスはヘリウム,窒素,空気などが使用され,ヘリウムは高い流速が得られる。粒子を低速で衝突させても基材に皮膜は形成されず,場合によってはエロージョン磨耗が生じる。粒子の衝突速度が,500m/s以上になると粒子の運動エネルギーにより粒子が塑性変形して皮膜を形成しはじめる。velocity)と呼ぶ。この臨界速度は,粒子と基材の材料,粒径などにより異なる。溶射材料としては,金属(銅,ステンレス,ニッケル,チタンなど)をはじめ,プラスチックさらにはサーメット,一部セラミックスなども成膜することが確認されている。最近は,ガス温度の高温化が進み適用材料も増えている。<プロセスの特徴>作動ガス速度は,超音速で500m/s以上,ガスの供給温度は300~900°Cであるが基材に到達するときには膨張するため室温~200°C程度に低下する。溶射粒子の酸化,熱変質がほとんどない。未成膜の溶射粒子が再利用可能性。新しい溶射法で,メカニズムに不明な点があり,データが不足している。溶射距離が5~30mm程度と短い。広報委員会が管理運営しています。