»ひとつのチップの中にn型MOSトランジスタ、p型MOSトランジスタを作り分けます。トランジスタを作る領域に、それぞれのトランジスタに応じた不純物を適切な濃度で注入します。(n-MOS:pウェル、nチャネル、p-MOS:nウェル、pチャネル)また、異なる電圧/特性のトランジスタを作るときは異なる不純物/濃度の注入を追加することで作り分けます。ボロンなど)を注入します。注入後、レジストパターンは除去します。リンなど)を注入します。注入後、レジストパターンは除去します。ボロンなど)を注入します。注入後、レジストパターンは除去します。ヒ素など)を注入します。注入後、レジストパターンは除去します。