1T-OTPのターゲットは、40nm、28nm、20nm、およびさらに小型のジオメトリのSoC。1T-OTPは、さまざまな大手半導体メーカーの40nmおよび28nm設計に使用。Fuse)メモリを、本日発表しました。1T-OTPは、GおよびLP改良型での40nmプロセスの認可をすでに受けており、複数の28nmプロセスの認可を完了予定で、続いて20nm認可も受ける予定です。40nmおよび28nmプロセス用のSHFのライセンスをお持ちのお客様には、モバイル、家電、コンピューティング機器用の製品を開発している大手半導体会社などがあります。SHFの用途には、コードストレージ、現場プログラミング可能なROM置換、セキュアな暗号キーストレージ、構成、ヒューズ置換、トリミング、較正などがあります。1T-OTPメモリの優位性を活用できるようになります。last)での追加のマスクやプロセスステップの実装も必要としませんので、非常にコスト効果の高い組み込みメモリソリューションを提供します。Sidenseの特許取得済みワントランジスタビットセルは、他のタイプの不揮発性メモリと比較して、セキュリティおよび信頼性でも多くの優位性があります。SHFはさらに、-40度~125度でのインプレースのコード実行、読み込み、書き込み処理での迅速なプログラミングや高速読み込みパフォーマンスなど、お客様にとっての利点を提供しており、組み込み冗長性、プログラミングやテストインターフェース、エラー修正、プログラム制御、自己テスト、高セキュリティアプリケーションのサポートなど包括的な機能セットを搭載しています。各種電源オプションには、現場プログラミング用、および高パフォーマンスコンピューティングや電源要件の厳しいモバイルアプリケーションのサポート用などが揃っています。「弊社の全NVM製品と同様に、SHFマクロは弊社の特許取得済みスプリットチャネル1T-Fuse(TM)ビットセルアーキテクチャをベースにしていますので、Sidenseはさまざまなアプリケーション用にセキュアで信頼性とコスト効果の高い現場プログラミング可能なOTP製品を提供できます。Kurjanowiczは述べました。「SHFは、もっとも先進的なプロセスジオメトリで包括的なNVMソリューションを必要とする低揮発性かつ高パフォーマンスの製品を設計している最先端のお客様のために開発されました。NVMは、さらに大型の構成で複数回インスタンスを作成できる最大1Mビットの各種1T-OTPマクロ構成で入手可能です。IPを提供しています。同社でき115件の特許を取得済みまたは申請中で、革新的な1T-Fuse(TM)ビットセルベースのOTPメモリIPのライセンス発行をしています。この製品は20nmジオメトリの半導体での実績があり、製造中の余分なマスクやプロセスステップは不要です。1T-OTPマクロは、多くのコードストレージ、暗号キー、アナログトリミング、およびデバイス構成について、フラッシュ、マスクROM、eFuseなどの組み込みおよびオフチップNVM技術よりも、現場プログラミング対応性や信頼性が高く、コスト効果の高いソリューションを提供しています。1T-OTPを採用しています。お客様は、ソリューションではモバイルや家電から、高温下で高い信頼性を要求される自動車や産業用エレクトロニクスまでの幅広い機器に対して、大幅なコスト削減および省電が可能でありながら、セキュリティと信頼性を向上することを高く評価しています。このIPは、大手半導体メーカーすべてと厳選されたIDMにより、サポートされています。Sidenseの本社はカナダのオタワにあり、世界各国に営業所があります。Corp.関連情報へのリンク本プレスリリースは発表元企業よりご投稿いただいた情報を掲載しております。お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。【企業の皆様へ】企業情報を掲載・登録するには?御社の企業情報・プレスリリース・イベント情報・製品情報などを登録するには、企業情報センターサービスへのお申し込みをいただく必要がございます。詳しくは以下のページをご覧ください。Japanは、CIOとITマネージャーを対象に、ビジネス課題の解決とITを活用した新たな価値創造を支援します。ついて運営会社サイトマップ当サイトは最新ブラウザでの閲覧を推奨します。permission.このサイトでは、利用状況の把握や広告配信などのために、Cookieなどを使用してアクセスデータを取得・利用しています。これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。Cookieなどの設定や使用の詳細、オプトアウトについては詳細をご覧ください。