三井化学、岩国に新設備2019年06月03日ゴムタイムス社Tweet三井化学は5月31日、半導体露光機のグローバルトップメーカーであるオランダのASML社と、EUV対応ペリクル事業の独占ライセンス契約を締結したと発表した。同日開催の経営概況説明会で淡輪敏社長が明らかにした。これにより、EUVペリクルの生産権と生産販売権を取得し、同社は山口県の岩国大竹工場内に生産設備を新設し、2020年第2四半期の完工、2021年の営業運転開始を目指す。淡輪社長は、「当面、当社が独占的にEUVペリクルを供給することとなる」と述べ、先端領域でのペリクルのトップメーカーを目指すことを説明した。同社は、半導体の製造において必須となる露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売して以来、半導体の微細化に合わせたペリクルの改良と製品品質の向上に努めてきた。ニーズが高まり、さらなる半導体の微細化が求められており、これに伴い、従来の露光工程とは全く異なる技術導入が必要となる。これを実現するのがEUV露光機と、その防塵カバーであるEUVペリクルとなる。ASML社は半導体の露光機メーカーとして世界最大手で、EUV露光機とEUVペリクルを開発した唯一のメーカーとなっている。