Ø25.0mmマウント無し、もしくはSMネジ切加工付きマウント付きマウント無しタイプには保護用ガラス基板(LPNIRA&LPMIRを除く)紫外光や化学物質に対する耐性ありカスタム仕様のサイズや波長でもご提供できます。詳細は当社までご連絡ください。このナノ粒子フィルム型直線偏光子は、偏光効果を生み出すためにソーダガラスに埋め込まれた長楕円体のナノ粒子が使われています。この偏光子は、従来のポリマーベースの偏光子よりも優れた性能を有しています。従来型偏光子もナノ粒子偏光子も、透過軸に対して垂直に偏光された光を吸収しますが、ナノ微粒子のほうがはるかに高い損傷閾値と優れた消光比を示しています。偏光子の透過軸は、マウント無しの偏光子(LPNIRA050、LPMIR050、LPNIRA100、LPMIR100を除く)にはエッジに2つの黒い印で示されています。マウント付きの偏光子には筐体に白い線で刻印されています。mmのマウント付き偏光子の筐体には、それぞれSM05外ネジ、SM1外ネジが付いているので、SMネジ付き部品との接続も容易です。回転マウントを用いて、マウント付き偏光子をケージシステムやレンズチューブなど、多くのシステムに組み込むことも可能です。B270)の間に挟まれています。マウント付き偏光子、およびLPNIRA&LPMIRシリーズは、高い損傷閾値を得るためにガラス基板には挟まれていません。mmの薄いソーダガラス製偏光子のみで構成されています。そのため、取扱いにはより注意が必要ですが、標準の光学製品のクリーニング法や溶剤を使用できます。Solvents消光比(ER)は、評価する上で十分な偏光比を有する直線偏光を入射したときに得られる、最大透過率の最小透過率に対する比率です。偏光子の透過軸に対して入射光の偏光方向が平行のときに最大透過率、そこから偏光子を90°回転させると最小透過率が得られます。いくつかの波長では>10,000:1または>100,000:1のERを示します(詳細は「グラフ」タブ参照)。許容角度はフレネル反射による損失により制限されます。下のプロット図は、光が垂直に入射した場合の各偏光子の透過率の波長特性(測定値:青線)と消光比の波長特性(計算値:赤線)を示しています。消光比(ER)の測定値については「仕様」タブをご参照ください。透過率は、直線偏光子の透過偏光軸にアライメントされた直線の偏光状態(SOP)の割合を示します。表面反射と内部吸収により、この数字は100%未満になります。したときの光出力強度と、直線偏光子の透過軸に垂直なSOP方向の直線に偏光された光が入力したときの光出力強度の比を示しています。グランレーザ方解石偏光子のERの定型値は1x106ですが、方解石偏光子は非常に高い損傷閾値を有しています。EnlargeLPUVシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPVISAシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPVISCシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPVISシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPNIRシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPNIRAシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。EnlargeLPMIRシリーズの透過率データはこちらからダウンロードいただけます。PassLPMIRナノ粒子フィルム型直線偏光子の損傷閾値データ右表はナノ粒子フィルム型直線偏光子の仕様値です。ナノ粒子フィルム型直線偏光子の損傷閾値は、サイズや焦点距離に関わらず全て一定となっております。レーザによる損傷閾値についてこのチュートリアルでは、レーザ損傷閾値がどのように測定され、使用する用途に適切な光学素子の決定にその値をどのようにご利用いただけるかを総括しています。:LIDT)を知ることが重要です。光学素子のLIDTはお客様が使用するレーザの種類に大きく依存します。連続(CW)レーザは、通常、吸収(コーティングまたは基板における)によって発生する熱によって損傷を引き起こします。パルスレーザは熱的損傷が起こる前に、光学素子の格子構造から電子が引き剥がされることによって損傷を受けます。ここで示すガイドラインは、室温で新品の光学素子を前提としています(つまり、スクラッチ&ディグ仕様内、表面の汚染がないなど)。光学素子の表面に塵などの粒子が付くと、低い閾値で損傷を受ける可能性があります。そのため、光学素子の表面をきれいで埃のない状態に保つことをお勧めします。光学素子のクリーニングについては「光学素子クリーニングチュートリアル」をご参照ください。21254に準拠しています。初めに、低パワー/エネルギのビームを光学素子に入射します。その光学素子の10ヶ所に1回ずつ、設定した時間(CW)またはパルス数(決められたprf)、レーザを照射します。レーザを照射した後、倍率約100倍の顕微鏡を用いた検査で確認し、すべての確認できる損傷を調べます。特定のパワー/エネルギで損傷のあった場所の数を記録します。次に、そのパワー/エネルギを増やすか減らすかして、光学素子にさらに10ヶ所レーザを照射します。このプロセスを損傷が観測されるまで繰返します。損傷閾値は、光学素子が損傷に耐える、損傷が起こらない最大のパワー/エネルギになります。1つのミラーBB1-E02の試験結果は以下のようなヒストグラムになります。上の写真はアルミニウムをコーティングしたミラーでLIDTテストを終えたものです。