Simulatorナノメートルプロセス技術(特に28nm以下の先端ノード)における設計では、高品質シリコンを実現し精度の低いサインオフ解析によるシリコンの作り直しを避けるために多くの追加ライブラリビューが必要です。インスタンスの電圧変動または温度勾配を正確にモデリングするには、ライブラリコーナーの総数を増やし、各ライブラリを複数の電圧と温度でキャラクタライズすることが必須です。ほとんどのアドバンスノードプロセスにおいては、チップサイズとパフォーマンスを犠牲にして歩留まりを改善する代替えセルライブラリの提供が一般的となっています。結果として、これらのライブラリビューすべての生成と維持は、設計フローで大きなネックとなっています。Suiteを中心としたライブラリ・キャラクタライゼーションフローを提供しています。Solutionが含まれます。このスイートでは、スタンダードセルから、I/Oセル、複雑なマルチビットセル、メモリやミックスシグナルブロックまで、ファウンデーションIPのキャラクタライゼーション、バリエーションのモデリング、検証を行うための業界で最も充実かつ強力なソリューションを提供します。ケイデンスの特許技術である「InsideView」テクノロジは、ライブラリ処理速度向上によるシリコンとのコリレーションの改善と、IPのタイミング、パワー、ノイズと統計的なキャラクタライズへの対応を可能とします。Simulatorとの統合により、アドバンスノードのライブラリに必須の精度に優れたスループットを提供します。