ゼオライト薄膜を用いた分子レベルでの高度連続分離プロセスの実現を目指し、緻密な薄膜状各種ゼオライト膜の合成法を確立することを目的とした。しては平均孔径0.1μmのアルミナ多孔質板を用いた。緻密な膜の生成条件は多くの因子が関係するが、最も重要なポイントは(1)ゲル調製時のpH、および(2)支持体とゲルの濡れであることを見いだした。ゲル調整時のpHはシリカ源にもよるがpH=11.6-12.0の範囲で厳密に調製する必要があることがわかった。MORおよびANA膜では支持体のアルミナが一部溶出し、ゼオライト骨格内に取り込まれたものと考えられた。支持体を予め表面処理によって安定化すると、アルミナの溶出を抑制しハイシリカのMFI,FER膜を合成することができた。以上のように原料試薬、ゲル組成、支持体の前処理法等を変え、MFI,FER,MOR,ANA各膜の最適な合成条件を決定した。ガス透過試験装置を試作した。無機ガスのガス透過特性を評価した。各ガスの透過流束の温度依存性はクヌッセン拡散から外れ、活性化拡散を示した。したガス透過実験の結果からピンホールのほとんど存在しない緻密な膜が得られたものと考えられた。以上、ゼオライト膜の合成に当たっての基礎的な検討を終え、緻密な膜を得るために必要な因子を抽出することができた。ガス透過実験からゼオライト薄膜を用いた分子レベルの超精密分離プロセスの実現の可能性を指摘することができた。