多孔質の構造が溶媒除去前にUV−LED重合を行う場合に観察される。フィルムの表面の全域でスタイラスに取り付けたフェルトパッドを振動させることができる機械装置を使用することにより、コーティング方向に対してクロスウェブに実施例1から選択されたディフューザーサンプルの耐久性を測定した。スタイラスは、210mm/秒の速度にて60mmの掃引幅にわたって振動した(ここで1回の掃引は、60mmの1回の移動として定義される)。スタイラスは、直径3.2cmの平らな円筒形ベース部の形状を有していた。このスタイラスは、フィルムの表面に対して垂直にフェルトパッドによってかかる力を増加させるためのおもりの取り付けができる設計になっていた。No.N237−115)から入手した。各測定につき、振動を25回繰り返した。耐久性等級を以下のように割り当てた:0(コーティングの最大5%の除去に相当)、1(コーティングの5〜20%の除去に相当)、2(コーティングの20〜50%の除去に相当)及び3(コーティングの50%以上の除去)。データを表3にまとめている。実施例3−明澄度を低下させた空隙を有するディフューザー(「ゲル化空隙を有するディフューザー」)実施例2からの4つの異なるディフューザーサンプル(102b、106b、109b、111b)を用いて、複数の光学構造体を製造した。これらの構造体について光学諸特性を測定し、標準的な体積ディフューザーを含む光学構造体と比較した。それぞれのディフューザーサンプルをSR5618直線吸収偏光子と接触させて配置する(すなわち、ディフューザーコーティングは、偏光子から離れた方向を向く)ことにより、第一セットの光学構造体(下記の表4ではAP−102b、AP−106b、AP−109b及びAP−111bと示される)を調製した。基材と偏光子との間に接着剤は全く使わず、その結果、光学構造体は、光学的接触にあるとは考えられなかった。第二セットの光学構造体(下記の表4ではAP*Q*102b、AP*Q*106b、AP*Q*109b、AP*Q*111bと示される)を以下のように調製した。8171高透明性接着剤を用いて、DBEF−Q反射偏光子の片面をSR5618直線吸収偏光子に積層した。8171高透明性接着剤を用いて、DBEF−Q反射偏光子の反対面をそれぞれのディフューザーサンプルに積層した(すなわち、ディフューザーコーティングは、直線偏光子及び反射偏光子のどちらからも離れた方向を向く)。得られた光学構造体は、光学的接触にあるとは考えられなかった。対照光学構造体(AP−AR33)を比較のために作製して、表4に示されているデータを正規化した。4265(0.4重量%)とを含んだ混合物を作製した。この混合物を高剪断ミキサー内で撹拌し、最後にビーズをこの混合物に加えた。TiO2分散液(2.6重量%)を上記混合物に加えた。次に、得られた溶液を0.254mm厚さポリエステル(PET)フィルム上にコーティングし、乾燥させ、紫外線硬化させて、約39マイクロメートルの乾燥厚さにした。得られた対照体積光学ディフューザー(AR33)は、約50%の総光透過率、約100%の光学ヘイズ及び約3%の明澄度を有した。対照体積ディフューザーをSR5618直線吸収偏光子と接触させて配置する(すなわち、ディフューザーコーティングは、偏光子から離れた方向を向く)ことにより、対照光学構造体(AP−AR33)を作製した。光学的接触にあるとは考えられなかった。GmbH(Karlsruhe,Germany)から入手可能)を使用して、光学構造体の上及び下方向における軸方向輝度(cd/m2)、積分強度(lm/m2)、及び明るさ半減角度(度)を測定した。比較目的のため、測定した軸方向輝度及び積分強度の値を、100%に設定した対照体積ディフューザー(AP−AR33)に対して、正規化し、光学諸特性を表4に要約する。4265とを一緒に混合することにより、コーティング溶液を調製した。下記の様々な速度にて注射ポンプによりコーティング配合物を8インチ(20.3cm)幅スロットタイプコーティングダイの中にコーティングした。Film(DBEF)ウェブにコーティングを送達した。コーティング後、ウェブは、作動中の、0.25インチ(0.64cm)の間隙並びに70°F(21°C)に設定された上方及び下方プレートの両方を有する5フィート(152cm)長セクションの間隙乾燥機の中に入った。LED水冷式配列を用いる重合セクションの中を通過した。それぞれの列の22個のLEDはウェブの幅全域に等間隔に置かれ、16列はおよそ8インチ×8インチ(20.3cm×20.3cm)の領域内にウェブ下流方向に沿って等間隔に置かれた。NC)から入手可能)であった。GENH750Wを電源としてLED配列に通電した。電力供給出力は、下記に示すように0〜13アンペアの範囲であり、およそ45ボルトにて操作した。制御下環境におよそ200立方フィート/時間(94.4リットル/分)の窒素を供給したところ、重合セクションの制御下環境中におよそ220ppmの酸素濃度をもたらした。装置を出た後、ウェブは約3フィート(0.9m)進み、3ゾーン全てを150°F(66°C)に設定した30フィート(9.1m)の従来の空気浮上式ドライヤーに入った。Systems,Inc.のVPS/I600(Gaithersburg,MD)を用いて、重合及び乾燥されたコーティングを巻き取る前に後重合した。FusionシステムはH電球で構成されており、硬化ゾーンの酸素濃度50ppm未満で100%の電力で運転した。得られたディフューザーのPET面から透過率パーセント(%T)、ヘイズパーセント(%H)、明澄度パーセント(%C)を測定し、得られたディフューザーのコーティングされた面からは%Tも測定した。反射偏光子をコーティングする前に透過率Taを測定し、反射偏光子をコーティングした後に光学構造体の透過率Tbを測定することにより、各光学構造体についてのゲインを決定した。各試料の光学ゲインは、比Tb/Taであった。各コーティングについての測定結果を表4に要約する。(代理人整理番号第65716US002号)に記載の手順に従って、低屈折率分布コーティングを調製した。光開始剤を基材上にコーティングしたところ、基材境界面から空気境界面にかけて密度に変化を生じた。819を混合することにより、光開始剤コーティング溶液を調製した。この光開始剤溶液をDBEFフィルム上に、43.2cm(17インチ)幅のスロットタイプコーティングダイを用いて、コーティングした。127g/分の速度及び30.5m/分(100フィート/分)のライン速度にて、溶液をコーティングした。次に、コーティングを150°F(66°C)の炉の中で乾燥させた。これは、光開始剤がプライムコーティングされた基材をもたらした。コーティング溶液「A」を作製した。2327コロイドシリカ粒子(40固体重量%、平均粒径約20ナノメートル)と、300gの1−メトキシ−2−プロパノールとを、高速撹拌して混合した。A−174シランを加え、混合物を10分にわたって撹拌した。次に、更に400gの1−メトキシ−2−プロパノールを加え、加熱マントルを用いて混合物を85°Cにて6時間にわたって加熱した。得られた溶液を室温に放冷し、60°C水浴下でロータリーエバポレーターを用いて大部分の水及び1−メトキシ−2−プロパノール溶媒(約700g)を除去した。得られた溶液は、1−メトキシ−2−プロパノール中に44重量%のA−174変性20nmシリカを有する透明なA−174変性シリカ溶液であった。コーティング溶液「A」は、18.0重量%の透明なA−174変性シリカ溶液(1−メトキシ−2−プロパノール中に44重量%のA−174変性20nmシリカを有する)と、23.9重量%の1−メトキシ−2−プロパノールと、46.1重量%のIPAと、12.0重量%のSR444と、から構成される。819をコーティング溶液Aに加えた。(圧力ポットを用いて)15.2g/分の速度でコーティング溶液Aを43.2cm(17インチ)幅のスロットタイプコーティングダイの中にポンプ注入した。スロットコーティングダイは、光開始剤がプライムコーティングされた基材上に43.2mm幅のコーティングを1.52m/分(10フィート/分)の速度にて均一に分配した。次に、紫外線の通過を可能にする石英窓を含む紫外線LED硬化チャンバーに、コーティングされた基材を通すことによって、塗料を重合させた。UV−LED硬化チャンバーは、4個のダウンウェブ×40個のクロスウェブの、160個のUV−LEDの矩形配列(約42.5cm×4.5cmの領域を対象とする)を含んだ。(日本、東京)から入手可能)を公称385nmの波長にて操作し、8アンペアにて稼働したところ、1平方cm当たり0.052ジュールのUV−A量をもたらした。NJ)から入手可能)により通電した。紫外線LEDを、基材から約2.5cmの距離を置いて硬化チャンバーの石英窓の上に配置した。UV−LED硬化チャンバーに1分当たり141.6リットル/分(5立方フィート)の流速で窒素流を供給した。空気を窒素供給の中に導入して、UV−LEDチャンバー中の総酸素濃度を制御した。RI)から入手可能)を用いて酸素濃度をモニターした。UV−LEDによって重合された後、コーティングされた基材を150°F(66°C)の乾燥炉へ2分にわたって、ウェブ速度10フィート/分(3.04m/分)で移送することにより、硬化したコーティング中の溶媒を除去した。MD)から入手可能)を使用して後硬化させた。Fusionチャンバーに、結果としてチャンバー内に約50ppmの酸素濃度を生じる窒素流を供給した。これは、DBEF上に低屈折率分布コーティングをもたらした。4265と、を一緒に混合することにより、空隙を有するディフューザーコーティング溶液を調製した。圧力ポットにより113.5g/分の流速にてコーティング配合物を8インチ(20.3cm)幅のスロットタイプコーティングダイの中にコーティングした。30フィート/分(9.14m/分)の速度にて移動する上記DBEF上の低屈折率分布コーティングにコーティングを送達した。コーティング後、ウェブは、作動中の、0.25インチ(0.64cm)の間隙並びに70°F(21°C)に設定された上方及び下方プレートの両方を有する5フィート(152cm)長セクションの間隙乾燥機の中に入った。LED水冷式配列を用いる重合セクションに通過させた。それぞれの列の22個のLEDはウェブの幅全域に等間隔に置かれ、16列はおよそ8インチ×8インチ(20.3cm×20.3cm)の領域内にウェブ下流方向に沿って等間隔に置かれた。NC)から入手可能)であった。GENH750Wを電源としてLED配列に通電した。電力供給出力は、下記に示すように4アンペアにて操作し、およそ45ボルトにて操作した。制御下環境におよそ300立方フィート/時間(141.6リットル/分)の窒素を供給したところ、重合セクションの制御下環境中におよそ59ppmの酸素濃度をもたらした。装置を出た後、ウェブは約3フィート(0.9m)進み、3ゾーン全てを150°F(66°C)に設定した30フィート(9.1m)の従来の空気浮上式ドライヤーに入った。Systems,Inc.のVPS/I600(Gaithersburg,MD)を用いて、重合及び乾燥されたコーティングを巻き取る前に後重合した。FusionシステムはH電球で構成されており、硬化ゾーンの酸素濃度50ppm未満で40%の電力で運転した。実施例4に記載のように、得られたディフューザーのDBEF面から透過率パーセント(%T)、ヘイズパーセント(%H)、明澄度パーセント(%C)及びゲインを測定した。%Tは37%であり、%Hは101%であり、%Cは0%であり、ゲインは149%であった。指示がない限り、本明細書及び請求項で使用される特性となる大きさ、量、及び物理特性を示す全ての数字は、「約」と言う用語によって修飾されることを理解されたい。それ故に、別の指示がない限りは、本明細書及び添付の請求項に説明される数字のパラメータは近似値であり、本明細書に開示された教示を使用して当業者が獲得しようとする所望の特性に応じて変化し得る。本願で引用した全ての参照文献及び刊行物は、本開示と完全には矛盾することのない程度まで、その全てが引用によって本開示に明白に組み込まれる。本明細書において特定の実施形態が例示及び説明されてきたが、多様な代替及び/又は同等の実施が、本開示の範囲から逸脱することなく、図示され説明された特定の実施形態と置き換えられ得ることは、当業者には理解されるであろう。本出願は、本明細書で説明された特定の実施形態のいかなる翻案又は変形をも包含すべく意図されている。したがって、本開示が「特許請求の範囲」及びその同等物によってのみ限定されることを、意図するものである。前記複数のビーズと接触しているバインダー組成物とを含み、前記バインダー組成物はバインダーと複数の相互連結した空隙とを含み、ここで、前記バインダー組成物中の前記複数の相互連結した空隙の体積分率は約5%以上である、空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、約1マイクロメートル以上の平均寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、約2マイクロメートル以上の平均寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、約3マイクロメートル以上の平均寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、約4マイクロメートル以上の平均寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、約5マイクロメートル以上の平均寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズが、球形ビーズ又は非球形ビーズを含む、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズと前記バインダー組成物の重量比率が約1:1以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数のビーズと前記バインダー組成物の重量比が約3:2以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の相互連結した空隙が、約2マイクロメートル以下の平均空隙寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の相互連結した空隙が、約1マイクロメートル以下の平均空隙寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の相互連結した空隙が、約0.7マイクロメートル以下の平均空隙寸法を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダー組成物中の前記相互連結した複数の空隙の体積分率が、約10%以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダー組成物中の前記相互連結した複数の空隙の体積分率が、約20%以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダー組成物中の前記相互連結した複数の空隙の体積分率が、約30%以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダー組成物中の前記相互連結した複数の空隙の体積分率が、約50%以上である、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約90%以上の光学的ヘイズを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約95%以上の光学的ヘイズを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約98%以上の光学的ヘイズを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約99%以上の光学的ヘイズを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約10%以下の光学的明澄度を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約5%以下の光学的明澄度を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約2%以下の光学的明澄度を有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約2マイクロメートル以上の厚さを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約5マイクロメートル以上の厚さを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約10%未満の光学的明澄度及び約5マイクロメートル以上の厚さを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。約5%未満の光学的明澄度及び約5マイクロメートル以上の厚さを有する、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダー組成物が複数の粒子を更に含む、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の粒子のうちの少なくとも一部が、前記バインダーに化学結合する反応性基を含む、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の粒子のうちの少なくとも一部が、反応性基を含まない、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の粒子が、約1マイクロメートル以下の平均寸法を有する、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の粒子が、約0.5マイクロメートル以下の平均寸法を有する、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記複数の粒子が、細長粒子又は球形粒子を含む、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダーと前記複数の粒子の重量比が約1:1以上である、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記バインダーと前記複数の粒子の重量比が約2:1以上である、請求項28に記載の空隙を有するディフューザー。前記空隙を有するディフューザーとの間に配置された低屈折率コーティングを更に備える、請求項36に記載の光学構造体。コレステリック反射偏光子を含む、請求項52に記載の光学構造体。約1.2以上のゲインを有する、請求項36又は請求項42に記載の光学構造体。約1.3以上のゲインを有する、請求項36又は請求項42に記載の光学構造体。配置され並びに複数の空隙と複数のビーズと約10%以下の光学的明澄度とを有する空隙を有するディフューザーと、を備える光学構造体であって、空隙を有するディフューザーの厚さが約5マイクロメートル以上である、光学構造体。約1.2以上のゲインを有する、請求項61に記載の光学構造体。配置された請求項64に記載の光学積層体を備える、ディスプレイシステム。前記複数のビーズのうちの少なくとも一部が、前記バインダーに化学結合した反応性基を含む、請求項1に記載の空隙を有するディフューザー。