(或以下)范围内,并且频率可介于约30kHz至IMHz范围内。例如,当划刻上述P2层及P3层时。624中的各别透镜626。以平移光束引导镜630、631并改变从遮罩622至成像光学系统624的距离,例如,以提供放大率(magnification)追踪。以当光学头600移动时划刻工件601。601上调整细光束616a_616d的方式。603a-603d的侧向位移。616a-616d自遮罩622至成像光学系统624的距离(即,光束长度)。举例而言,可在将光束606分成多个细光束616a-616d之前,正交于运动轴线(即,X轴)反射及引导光束606。(图未示出)上光学头600外的其他位置。