「ECH電力に対する電位生成則」を基盤とする、以下の成果をあげた。1台0.5MWのジャイロトロン(1台当り従来の世界のミラー実験の最大パワーの2.5倍)を用いて、合計入射パワー1〜2MWの実験を行った。Lettersに示した、今までのタンデムミラー電位生成電位閉じ込めの2大理論(パスツコフ理論、コーエン理論)の新統合理論が、更なる高電位生成へ適用・拡張可能であることを実証した。設計・設置・実験への分担参加のもとに、これら理論・実験・更にこれまでの科研費で開発した独自の計測器技術を総合的に用いる、最高レベルの専門家と技術を結集・投入した、電位生成電位閉じ込め則の究明のための、共同実験を遂行・実施した。43,293(2003)]比例則に従って、プラズマ・パラメータとECH電力・入射法を最適化した。高く広いプラズマ・パラメータ領域への、更なる拡張性・適用性と物理機構の実証・確立を行う目的で、ECHのミラー研究史上初めての0.4MWの入射を行い、従来の最高電位の3倍となるイオン閉じ込め電位生成に成功した。