樟脳(カンファ)は、分子構造:C10N16Oで2つのメチル基(CH3)と炭素の6員環と5員環をもっているため、メタン(CH4)を原料に用いる場合に比して、200°C低温化した基板温度800°Cで、良質なグラフェン膜を得ることができ、5cm×5cmフレキシブルプラスチック基板に、グラフェン膜を作成でき、シート抵抗100オーム/□および可視光透過率85%を得ることができ、透明電極として、十分に使用できることを示した。マイクロ波励起表面波プラズマCVDではさらに300°C低温化した500°Cでも良いグラフェンの成膜ができることを明らかにした。