小池和幸教授らと共同で、量産に適した成膜手法であるスパッタリング法を用いて、良質なコバルトフェライト単結晶薄膜を作製することに世界で初めて成功した。垂直磁化を示す磁性材料の磁化と磁気異方性(青い実線より上部)。(出所:筑波大/KEK/北海道大学)この薄膜について磁気特性および結晶構造の評価を行ったところ、白金などの貴金属を含む磁性材料に匹敵する強い垂直磁気異方性を有することを見出した(図1)。貴金属を用いない高性能な垂直磁気記録方式のHDDの記録媒体を実現できる可能性が示された。