Japanese)ホールタイプ銅酸化物で重要な,面内抵抗率(ρab)のTへの線形依存性,ホール抵抗率(ρH)の1/Tに従う変化,およびcotθ(θ:ホール角)のT二乗の依存性などを,全てのCu-1234で測定した。実キャリア濃度の測定は一般的に難しいが,通常のバンド理論のホール係数を用いるのは議論の余地がある。ヨード滴定分析での銅原子価とCuC-1234試料のホール数との関係から,ホール数はキャリア濃度の尺度となることを示した。その結果,広いキャリア濃度範囲で高いTc(117K)が得られるという,CuC-1234のユニークな特徴が観測された(図1)。高度にドープしたCuO2とほぼ最適にドープしたCuO2層の両方の電子状態が共存が,多層型超伝導体Cu-1234における特有の低い異方性を引き起こした。Cu-1234各濃度試料の8GPa圧でのTc増加(8~10K)は,Hg系およびBC系でのそれとほぼ同じであることが判った(図2)。CuTl-1223(Tc=134.6K)は8GPaで147.0Kに増加し,高度にドープしたCuTl-1223では更にプラス側に増加した。