Japanese)例えば、太陽電池の光電変換素子に用いられるアモルファスシリコン薄膜は、従来、次のような方法により成膜されている。プラズマを生成し、前記基板表面にアモルファスシリコン薄膜を成膜する。このときの放電は、生成されるプラズマ中に微粒子が可能な限り少なくなる条件でなされている。薄膜トランジスタ等に適用されるアモルファスシリコン薄膜の成膜方法に係る。前記シランガスは、前記真空容器内に5~30sccmの流量で供給されることを特徴とする請求項1ないし3いずれか記載のアモルファスシリコン薄膜の成膜方法。