>開発施設デバイス開発施設デバイス開発施設デバイス開発施設は、本法人において発明された薄膜機能材料を用いた薄膜素子およびデバイスを試作、評価するための施設であり、当施設には大小3つのクリーンルームが設置されています。写真は、最も広いクラス1000のクリーンルームの内部で、薄膜を積層して3次元素子を試作するための主要設備(10台)が設置されています。その他に、素子の性能を精密測定するクリーンルームおよびウエット用クリーンルームがあります。本法人において発明された薄膜機能材料を用いた薄膜素子およびデバイスの試作開発研究ならびに薄膜素子およびデバイスの共同研究に係る試作を実施しています。2.デバイス開発施設の主要設備リソグラフィー技術により、最小線幅0.5μm、基板サイズ3インチまでの薄膜素子およびデバイスの製作を行える設備として、マスクアライナーをはじめとするリソグラフィー装置、加工用のイオンビームエッチング装置、成膜用のスパッタ装置(4台)等を所有しています。本法人で発明・開発したバルク機能性材料の高度化と用途開発を目的としております。き・各種熱処理炉などを所有し、材料性能の高度化や製造条件の検討を行ない、実用化を目指した研究を実施しております。おいて発明・開発された高機能性材料および独自製造法により作製された機能性材料などの実用化、新たな用途開発および性能向上に向けた試作開発研究を実施しています。