半導体セミコンジャパン201912月11日〜13日まで開催されたセミコンジャパンを訪問しました。新規な内容があまり目につくことのないというのが正直な感想ですが、ALDに関して目についたことを記載します。バルブに関してSwagelok社より大容量タイプのALDバルブが発表紹介されており、バッチ処理の装置への進展が進んでいることを感じました。280°Cに耐えられるバルブも出展されており、より高温のALDプロセスの需要も高まっているものと思われました。添付はCKD社様のご厚意により、撮られせ頂いたラインアップになります。株式会社セルバック新しくALD分野へ参入して来た装置メーカーのようです。霜垣先生がALDを中心にCVDとALEに関するセミナーを行います。activity」を行います。霜垣先生がALDとALEに関するセミナーを行います。セミナーシンポジウム紹介「原子層プロセス技術の基礎と応用」MNC2019で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。浦岡氏がフレキシブルディスプレイとALD技術に関するセミナーを行います。廣瀬氏がALDプロセスの薄膜合成に関するセミナーを行います。中で、ALDやALEに関するシンポジウムが開催されます。(弊社もスポンサーをさせて頂きます。町田氏がALDプロセス、ALD基礎と原料開発に関するセミナーを行います。Kesselsアイントホーフェン工科大学(オランダ)の教授。今までのプラズマALD、ALE、エリア選択ALDで、太陽電池やナノパターンを研究されてきておられます。Awardを受賞されました。この先生はプロセス及びプリカーサーの開発の世界的開発動向を一つのサイトをまとめており、今回ご紹介する次第です。この周期表を見ればどんな材料がALDで成膜できるのか、最新の動向も含めて、ご理解頂けると思います。世界中の研究開発者にアップデートのお願いもしておりましたので、日本の研究者にもご協力頂けると幸いでございます。technology.Translate。