出願した特許の牽制数、引用された数などを知る事ができます。気になる技術や特許をブックマークしておけば、いつでも後から読むことができます。後で印刷するために、公報をPDFでダウンロードできます。会員登録してastamuseを使えば、もっと簡単に便利にお使いいただけます。会員登録(無料)「astamuse」は世界中の挑戦したい社会課題に挑戦し、未来を創る人のプラットフォームです。関連する技術を21件開発しています。含む技術文献に基づき、その意味・用法のみならず、活用される分野や市場、法人・人物などを網羅的に把握することができます。収納部20Cはカセット24の下段を使用し、同じカセット24の上段は第2モニターウエーハ収納部20Dになっている。作製することなく、製品となるSOIウエーハそのものについて直接的に測定し、埋め込み拡散層のシート抵抗を評価することができるSOIウエーハの評価方法を提供することを目的とする。10の表面に光透過膜16が形成されているので、測定が容易な光透過膜16の厚さを測定することにより、研磨対象膜14の厚さを求めることができるようにした。モニターウエーハの搬送を行う搬送手段とを有していることを特徴とする研磨装置。用いて間接的に主要な装置の汚染状態の評価を行うのが一般的である。削減することができた。ような、結晶構造を有する試料の蛍光X線分析において、検出器に入射する特定波長の回折X線の強度を容易に最小限に抑えて、正確な分析のできる装置および方法に関するものである。用いて装置・機器の汚染管理を行うことで製品ウエーハの汚染を推定するといった間接的評価データによる汚染管理方法が広く用いられている。外周部の測定結果の信頼性向上を実現することができる金属汚染評価用シリコンウエーハを提供する。)に対してエピタキシャル成長を行う(図1(A))。データ等)を元に構成されています。出典元のデータには一部間違いやノイズがあり、情報の正確さについては保証致しかねます。一時的に、各データの収録範囲や更新周期によって、一部の情報が正しく表示されないことがございます。当サイトの情報を元にした諸問題、不利益等について当方は何ら責任を負いかねることを予めご承知おきのほど宜しくお願い申し上げます。”未来を創るためのプラットフォーム”astamuseは、世界中で未来を創るための「仕組み」を提供するため日々改善を進めています。専門用語を解析し、意味や用法を知ることが出来るキーワード情報そしてこれらの情報を最大限活用することで、挑戦したい社会課題を独自の切り口で編集。社会に大きな変化を起こし、未来を創るために活動し続けるのは容易なことではありません。行う為に必要なサービスの提供を行っていきます。それが私たちの考える“未来を創ること”です。