サービスの受付を始めた。サービスの受付を始めたと発表した。EBL2は、2017年3月末に正式オープンした。EUV関連の企業や研究機関が手掛ける光学部品やマスクペリクルセンサーなどの研究、評価を支援するための設備である。サンプル品をハンドリングしながら、真空環境において光照射から評価まで一貫して、リアルタイムで計測することができる。出典:ウシオ電機EBL2では、極めて高い輝度と出力が得られるEUV光源を用いることによって、6インチマスクまで対応できるなど、大面積の露光評価が可能である。このため、評価の期間を短縮することができるという。ウシオ電機では、高精度マスク検査用光源技術を進展させ、これからも最先端半導体製造プロセスに対応していく考えである。2016」(2016年12月14〜16日/東京ビッグサイト)で、フォトレジストが不要で直接パターニングができる真空紫外平行光ユニットなどを展示している。産業用の光源をはじめ光の応用製品を扱うウシオ電機。エキシマランプは90%、UVランプは75%と高い世界シェアを獲得する同社だが(同社調べ)、映像機器/ライフサイエンス分野への展開も進めている。その理由を、同社コーポレートコミュニケーション課で課長を務める山田宏一氏に聞いた。2016」(2016年6月1〜3日/東京ビッグサイト)で、光源を利用したデスミア技術「フォトデスミア」の参考展示を行った。(NIMS)の三成剛生氏らによる研究チームは、線幅/線間1μmの解像度で金属配線および薄膜トランジスター(TFT)を形成する印刷技術を開発した。フレキシブル基板上に素子を形成し、移動度が実用レベルであることも確認した。半導体フォトマスク市場、2016年は33億米ドルSEMIは、世界の半導体フォトマスク市場規模を発表した。2016年は33億2000万米ドルとなった。2018年は35億7000万米ドルを予測する。(新品)の販売額が前年比13%増となる412億4000万米ドルとなったと発表した。受注額は、前年比24%増となっている。LLC.ITmediaはアイティメディア株式会社の登録商標です。