PlatformTMの適用が加速。Platformを用いたテープアウトが、最初の一年で100件を越えたことを発表した。これらの設計では、設計結果品質が20%、開発スピードが2倍向上している。Platformは、各種設計ツールの基幹エンジンや、論理/物理デザインを表現するためのシノプシス独自の単一データモデルの共有により、従来型の設計フローの壁となっている個別ツール間の境界線を取り払い、難易度の高い7nmデザインでより低消費電力、より高性能を達成している。Ghaziは次のように述べている。Platformの採用が急伸しているという事実は、当社にとって大きな励みになります。当社は、最先端プロセス・ノードで急速に高まる技術的課題を克服できる設計プラットフォームを開発するため、各社の設計部門と緊密な協業を続けております。Platformは、EUV単一露光のためのデザイン最適化、ビアピラー、配線性と配線リソース有効活用を最大化するビア実装、IRドロップとエレクトロマイグレーションの最小化を実現できる。Validatorを統合活用して、設計のやり直しを最小限に抑えて最も結果予測性の高い7nmフル設計フローを実現する。Valleyにて紹介される。Software)をカバーするソリューションを提供している。電子設計自動化(EDA)ソリューションならびに半導体設計資産(IP)のグローバル・リーディング・カンパニーとして長年にわたる実績を持ち、ソフトウェア品質/セキュリティ・ソリューションの分野でも業界をリードしており、世界第15位のソフトウェア・カンパニーとなっている。シノプシスは、最先端の半導体を開発しているSoC(system-on-chip)設計者、最高レベルの品質とセキュリティが要求されるアプリケーション・ソフトウェアの開発者に、高品質で信頼性の高い革新的製品の開発に欠かせないソリューションを提供している。詳細情報は、https://www.synopsys.com/ja-jpより入手可能。Inc.の登録商標または商標です。その他の商標や登録商標は、それぞれの所有者の知的財産です。