プロセスでは、テクノロジー・ノード10/7nm(ナノ・メートル)という微細なプロセスが主流となり、今後もEUV光源の導入による7nm以下の更なる微細化が注目されています。その一方で、IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり、新規投資による生産能力の拡大と、既存工場のアップグレードで対応する事が期待されています。従って、ドライ露光装置の更なる改善が要求され、露光装置における高生産性と高い稼働率(Availability)が不可欠となっています。GT45Aは、すでに生産現場で導入実績のある、以下のArF液侵用光源技術を適用させることで、ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えます。この情報へのアクセスはメンバーに限定されています。ログインしてください。メンバー登録は下記リンクをクリックしてください。viewsレーザーガンシップ誕生か。viewsヘッドライトの変遷。viewsレーザー搭載車で電柱点検を効率化。