Mask:PSM)の製造や、モバイル通信機器・IoT・そして車載向け半導体用で使われるバイナリマスクの製造を独自の消耗品フリー設計で製造コストを大幅削減。最先端の半導体製造工場で実証された安定性で、高い稼働率をお約束。Device:DMD)を用いた独自のパターン縮小投影で、世界で初めて最小画素1μmを実現。スキャンニング方式もシリーズに新たに加わり、処理能力がさらに向上。レジスト三次元加工が容易に行えるグレースケール露光は市場の新たなニーズに対応。くわしく検査装置シリーズシリコンウェーハやガラス基板などの、外部欠陥や内部欠陥の検査を、独自の光学技術と画像処理技術によりご提案。NanoSystemSolutions.Inc.,。