在本实施方式中,投影光学系统PL的光轴AX与Z轴方向平行。基板工作台2具有凹部2C,基板保持架2H配置在该凹部2C处。另外,优选基板工作台2的上表面2F相对于曝光用液体LQ具有防液性(撥液性)(曝光用液体LQ和上表面2F的接触角为80度以上)。计测工作台3的上表面3F大致平坦。LQ具有防液性(曝光用液体LQ和上表面3F的接触角为80度以上)。6的激光干涉仪6P计测。3的关于X轴、Y轴和eZ方向的位置。