后,第二光线1516传入基片1502。1502.第三光线1518在第三高折层1506c内从反射表面1510反射,在进入基片1502之前,在高折射层1506内不再折射。第三光线1518以比第二光线1516更高的角度从基片1502出射,因为它在高折射层1506内不折射。高折射率材料涂层1606覆盖着结构1604和透明区1604。高折射率材料涂层1606覆盖着结构1604和透明区1608。1604之前,先在基片1602上形成散射表面。17,该图示基片1702上有一低折射结构1704的膜1700,高折射材料涂层1706覆盖着结构的底部1712之间的透明区1708。2204位于基片2202上方,较高折射率涂层2206覆盖着结构2204和结构2204之间的敞开区2208。1804之间的敞开空间1808。1804顶部通过高折射层1806的光线。1804的后缘1804a,导致光损失。膜2000下侧的槽2002用平表面2004(也称为地面)分开。制成图20B的未完成的物件。把漫射体2006涂布在平表面2002上。2008,如图20C所示。在基片2302上形成若干结构2304,以形成步骤1所示的膜。2310,覆盖着透明区2308,如步骤2和3所示。在膜2300上方设置金属涂层2312。