AGは重要な製造プロセスと技術開発を経験とノウハウを生かし、長年サポートしてきました。電子、そして光産業でしたが、将来の注目分野であるエネルギー、太陽光発電、そして環境技術までも対象としてきました。あらゆる分野の真のマーケットリーダーを目指して、立ち止まることのない未来に向けて進化を続けていきます。現代の様々な微細構造デバイスに対し、マイクロ波(2.45GHz)プラズマは様々な利点を持ちます。中でもマイクロ波プラズマによるエッチング機能は,その等方性作用によりウェットエッチング処理と類似した結果となります。非常に高い電子密度で、且つイオンの運動エネルギー抑制に寄与する事で、理想的なダメージレスのプロセス結果が得られます。高周波RF(13.56GHz)プラズマは最も多く活用されているプラズマ技術です。産業の様々な分野で、また昨今では医療・バイオ関連のアプリケーションでも活用されています。材料表面の活性化、クリーニング等のプロセスに適応致します。大気圧プラズマ装置は、大気圧下で安定してプラズマを発生させることが出来ます。低温での処理が可能であり、薬液などを使用しないため、環境にやさしく生産性に優れた表面改質方法です。表面に水酸基を加飾するなどの作用で液体等が弾きにくくなる親水性の向上効果があります。systemTePla社のGIGAbatchシリーズの全てのモデルは同一コンセプトでデザインされています。プロセスチャンバーの外側で発生させたマイクロ波が効率よく活性ラジカをチャンバー内へ導きます。アプリケーション毎に異なるチイャンバーデザインで最適なプロセスを構築できます。バックエンドモデルは先端デバイスのバックエンドプロセス工程の様々なアプリケーションに対応することが出来ます。低圧に制御されたチャンバー内でのマイクロ波(2.45GHz)プラズマによるダメージフリーのプロセスが製品歩留まりに効果を発揮致します。