しての利用等の要求が高まっている。おける軟X線反射解析の双方の観点から理論解析を行い、更にX線発生装置を用いてX線の反射特性の実験的基礎検討を行った。原子レベルでの媒質境界面を疑似的に導体円柱格子とみなし、X線電磁波の反射、散乱、回折の解析を境界要素法を用いて行った。入射角依存性等の基礎特性を得た。境界面の不規則性が散乱特性に与える影響などについても電磁界理論的に検討を行った。解析に用いたモデルでは、現実モデルとの相違点がかなりある。今後、より現実に近いモデルでの解析および実験値との比較が必要である。2)多層薄膜における軟X線の反射解析Au/C、Pt/Si、Rh/Siなどの多層薄膜に対するX線波長領域における反射特性解析を行った。求め、比較的高い反射率を得た。Rh/Si多層薄膜における反射率は80%であった。これらの解析結果より、各膜厚を高精度に制御できる蒸着法として分子線エピタキシャル成長法、RFスパッタ法などの検討、および高反射を成し得る多層薄膜の材料選定、膜厚の最適化を行った。現段階における成果は、実際のX線導波路実現に対し必要とされる反射率に比べて不十分なものである。今後、より理想的な高反射多層薄膜の設計および表面粗さなどを考慮した厳密な反射解析が必要である。3)X線導波路の理論的検討ファイバ型および平面回路型X線導波路の材料および構造の理論的検討を行った。ファイバ型導波路として屈折率分布型およびステップインデックス型による構成の検討を行い、伝搬モ-ドの解析も行った。導波路における境界面の不規則性によるモ-ド変換、散乱特性の解析を行い、導波路内における伝搬状況の基礎的特性を明確にした。