JavaScriptを有効にして再度、お越しください。HOME※各教員の担当科目については、以下のリンク先にある「教員名」に該当教員の氏名を入力の上、検索してください。IDnakanotプロフィールスパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。ISBN:978-4-339-00908-8真空の基礎科学から作成・計測・保持する技術に関わる科学的基礎を解説。成膜,プラズマプロセスなどの応用分野で真空環境の役割を説き,極高真空などのこれまでにない真空環境が要求される研究・応用への取組みなどを紹介。ISBN:978-4-339-04631-1本書では,まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ,次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。電子情報通信学会スピント型エミッタは真空電子源のひとつである。この陰極は、上部にホールの開いた微細キャビティを基板上に形成し、ホールを通して陰極材料となる金属をキャビティ内部に堆積させて形成する。従来この堆積には真空蒸着法が用いられていたが、大面積化が困難、高融点金属では引っ張り応力緩和のために基板加熱が必要、などの制約があった。本研究では、粒子の入射方向やエネルギーの制御が可能な大電力パルススパッタ装置を用いた。