化学増幅型フォトレジスト用材料:露光によってレジスト膜中に発生させた酸の触媒連鎖反応を利用する反応機構を持つレジスト材料。フッ化アルゴン・エキシマレーザー:アルゴンガスとフッ素ガスの混合ガス中で放電したときに発するレーザー光。nm以下の先端LSI製造の露光光源として用いられている。arf_resist_press@ml.labs.fujitsu.comプレスリリースに記載された製品の価格、仕様、サービス内容、お問い合わせ先などは、発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。