大型基板対応CVD装置に展開しました。CVD法、あるいは、HWCVD法とも呼ばれています。(図1)PECVD装置とCat-CVD装置の概念図。上図(図1)に、PECVD法とCat-CVD法の装置の概略図.CCVシリーズはa-Si成膜用縦型CVD装置です。30年以上の量産実績を持っています。個別のチャンバーで低デポレートに成膜することで高品質な膜質が得られます。原料気体を加熱された基板表面へ導入し,ここで化学反応を.千葉、四日市、堺で展開する炭酸ガスの3製造拠点は、石油、化学メーカーから排出されるオフガスを分離精製し、液化蒸留することにより高品質の炭酸ガスを生産するプラントです。化学蒸着法を用いる熱CVD装置やプラズマCVD装置をご提供いたします。お手数をおかけ致しますが、ご対応可能かお問い合わせ下さい。基板に対応した大型プラズマCVD装置です。