(USA)抄録/ポイント:抄録/ポイント文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。部分表示の続きは、JDreamIII(有料)でご覧頂けます。J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。エピタキシャル成長工程技術をのべ,その加熱方法と装置の構造を研究した。エネルギー源として高周波電子管装置を用いた誘導加熱法と電動機-発電機を用いた誘導加熱法とを研究した。誘導加熱の原理と構造を解析し,成長層の特性を均一にして収率をあげるために最適左誘導加熱コイルの構造を導いた。エピタキシャル反応装置として垂直形,水平形,パンケーキ形についてその設計法と周波数,嵐力の影響を議論した。ReservedTOP。