contentNECは10月26日、米Unisysとの事業提携を正式に発表した。両社はサーバ基盤を共同開発する。今回の事業提携の柱は(1)サーバ基盤の共同開発、(2)ミドルウェアの相互利用、(3)世界規模でのシステム製品の協業、(4)世界規模での保守サービス協業、(5)システム構築方法論兼ツールの協業--の5つからなる。(1)のサーバ基盤の共同開発では、両社が共同でハイエンドサーバ基盤を共同で開発する。Platform)は、NECが製造し、UnisysにOEM(相手先ブランドによる生産)供給する。共同開発でUnisysは研究開発費の削減、NECはハードウェアの売上高増加を狙う。Platformはインテルベースであり、両社共通のサーバハードウェアとなる。2007年中に32ビットに対応したチップセットと16個までのプロセッサを搭載可能なサーバを開発する。2008年中には、32ビットと64ビットに対応するチップセットと32個までのプロセッサを搭載できるサーバを開発する。Platformは、ClearPathとES7000の後継機となる。ちなみに、ClearPathは、旧ユニバック系OS(基本ソフト)であるOS2000を搭載する「Doredo」と旧バロース系OSの「MCP」を搭載する「Libra」で構成される。Platformは、NECのメインフレーム「i-PX9000」、ハイエンドサーバ「NX7700i」、PCサーバ「Express5800」の後継機となる。Platformは、NEC、Unisysのサーバの基盤であり、全く同じハードウェア構成のサーバが出荷されることになる。NECのi-PX9000の後継機にはACOS-4が、UnisysのES7000の後継機にはWindowsとLinuxが搭載されるといった具合に、それぞれOSを含めたソフトで違いが出てくる」と説明している。2004年7〜9月から2005年4〜6月までのハイエンドサーバ市場シェアでは、Unisysが33.1%、NECが6.8%となっている。今回の事業提携でNECは約40%の市場シェアを獲得することになるが、NECでは「更なるシェア拡大を目指す」(小林氏)としている。Platformが提供される2007年から2010年まででUnisys向けに約2万2000台のサーバを出荷するとしている。(2)のミドルウェアの相互利用では、具体的にどのミドルウェアを相手に提供するかは決まっていない。候補として、NECは「SigmaSystemCenter」や「ClusterPro」、「MCOperations」などを、Unisysは「Supervisor」や「Metering」をそれぞれ挙げている。(3)のシステム製品の協業では、両社でフォーカスしている領域に絞ってスタートするとしている。「従来の事業提携では、総花的にやることが多かったが、あまり結果が出ていないからだ」(小林氏)。Unit」、顔認証エンジン「NeoFace」といったNECのセキュリティ関連システム製品を、Unisysのシステム製品に組み込む。Unisysは、これらの製品を主要顧客である政府や空港に販売する方針。NECが強みとしているSIPサーバやプレゼンスサーバとUnisysが強みとしているメッセージングなどのアプリケーションを組み合わせた製品を、日本を除く世界の通信事業者に販売していくとしている。(4)の保守サービスでは、NECが海外でメンテナンスやサポートサービスを提供する際に、可能な限りUnisysのサービス網を利用することを検討する。Enterprise」(3D-VE)を、NECが活用を検討する。3D-VEは、Unisysが独自に開発したEA(エンタープライズ・アーキテクチャ)開発手法。システムの基盤から、アプリケーション、業務プロセス、企業のビジネスまでを立体的に可視化するというもの。小林氏は、今回の事業提携を交渉する中で「資本提携については全くの白紙。資本提携をする必要がない」と説明し、資本提携については完全に否定している。Unisysは約30%程度出資する日本ユニシスにES7000などのハードウェアを販売しているが、今回の事業提携の交渉には「日本ユニシスは参加していない」(小林氏)。Unisysでは「日本ユニシスとのパートナーシップは今後も続ける」としている。Japanは、CIOとITマネージャーを対象に、ビジネス課題の解決とITを活用した新たな価値創造を支援します。ついて運営会社サイトマップ当サイトは最新ブラウザでの閲覧を推奨します。permission.このサイトでは、利用状況の把握や広告配信などのために、Cookieなどを使用してアクセスデータを取得・利用しています。これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。Cookieなどの設定や使用の詳細、オプトアウトについては詳細をご覧ください。