JavaScriptを有効にして再度、お越しください。プロセス、DEPデバイス応用という3つの課題に取り組んだ。微細加工技術として高い柔軟性を有するPBWを用い、材料・プロセスの面から取り組むことで、高アスペクト比ピラー構造部材の作製とそのデバイスへの組み込みに至るまでの技術を開発した。これにより、三次元誘電デバイスを作製し、その優れた微生物捕集特性を示すことができた。富裕ナノデバイスあるいはマイクロマシン創製の基盤技術として、MeV以上の高エネルギーイオンマイクロビームの特長を活かした3Dナノ構造創製技術を開発した。エネルギー付与、および長飛程の特長を活かし、それらを組み合わせてマスクレス描画する技術を開発し、ナノ細線を含む3次元微細構造の創製に見通しを得た。高い分解能で高品質の構造体を高速かつ低コストのマイクロ・ナノ構造作製技術が要求される。同時に、その技術をナノバイオロジーなど他分野へと適用可能な柔軟性を有することも重要である。Writing、PBW)技術である。宏之MeVオーダーの高エネルギー集束イオン線によるマイクロ・ナノ照射効果は、光学用の基幹材料であるシリカガラスにおいて欠陥生成や高密度化などの3次元分布構造を誘起することが知られている。この照射効果のサイズは、横方向でμmスケール、深さ方向でnmから数十μmスケールの分布を示すことに着眼して、本研究ではマイクロ・ナノ照射効果によってもたらされる「3次元誘起構造」の形成機構解明と制御、および微細光学素子等の形成への応用を目的として研究を遂行した。初年度は、下記の3点に重点を置き研究を遂行した。(1)DUV-VIS励起顕微PL・ラマン3次元分光法(現有備品)による3次元微細構造のミクロ評価:誘起構造の電子状態および振動状態の高分解能(〜1μm)3次元同時マッピングによる解析。