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Récupérer au formatBibTeX -EndNote -TEI -RefWorks - Université Joseph-Fourier - Grenoble I (13/01/1989), Menet J. (Dir.)
Etude et mise au point d'un nouveau procede de depot de vapeurs et d'ions metalliques
O. De Gabrielli1
Les procédés de t raitement de surface par dépôt, qui permettent de modifier les propriétés de surface sans modifier celles du volume, connaissent un grand essor industriel. La description de ces procédés amène à considérer le rôle et l'importance que les plasma y jouent. La nouvelle source de plasma que nous avons mis au point a été l'objet d'une étude expériementale qui est exposée. Cette source de plasma est la base du procédé de dépôt que nous avons développé (dépôt de vapeur et d'ions métalliques). La description et les résultats préliminaires permettent de comparer ce procédé avec ceux existants. Les deux caractéristiques essentielles de ce procédé sont la très grande vitesse de dépôt et la très bonne adhérence.
: Physique/Matière Condensée/Autre
Soumis le : Vendredi 7 Avril 2000, 10:55:33
Dernière modification le : Lundi 7 Février 2005, 09:47:51