Resa di sputtering
# Resa di sputtering

La resa di sputtering (sputtering yield in inglese) è definita come il numero di atomi erosi dal bersaglio per ogni ione incidente.

È una quantità che dipende dai seguenti parametri:

* massa dello ione incidente
* massa degli atomi del bersaglio
* energia di legame interatomico nel solido
* angolo di incidenza
* energia dello ione incidente.

La curva della resa di sputtering in funzione dell'energia dello ione incidente è all'incirca lineare fino a una certa energia, oltre la quale tende a un asintoto orizzontale: a tali energie gli ioni penetrano così in profondità nel bersaglio che l'energia non è più trasmessa agli strati superficiali, ma solo a quelli sottostanti, in modo che gli atomi abbiano probabilità nulle di uscire dal bersaglio. In regimi di energie molto alte si esegue infatti un processo detto impianto ionico.

