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| Nanoanalysis | Nanooptics and Nanophotonics
L'Accouchement de D'abord PROUVENT le Système de Photomask Comportant 193 Blocs Optiques de nanomètre
Published on August 13, 2010 at 3:56 AM
Carl Zeiss enregistre l'accouchement du premier Système d'Inscription de PROVE™ et de Métrologie de Transparent pour les photomasks à la Technologie de NuFlare, le fournisseur principal mondial des maskwriters basés d'e-poutre. C'est le début pour une suite d'accouchements pendant les mois prochains. Après trois ans de temps de développement le premier système de PROVE™ réussi avec succès l'acceptation d'usine et a été expédié NuFlare/au Japon. PROVE™ est conçu pour mesurer l'emplacement d'image et la cote critique sur des photomasks avec la répétabilité et l'exactitude de sous-nanomètre. Le système developpé récemment discerne par ses 193 blocs optiques de nanomètre avec la définition supérieure. « Nous sommes heureux de recevoir le premier outil d'inscription de Carl Zeiss. L'excellente définition et la précision sans précédent de mesure de PROVE™ sont inévitables pour développer et optimiser nos plus défunts auteurs de masque d'e-poutre de rétablissement et nous permettent d'accélérer notre propre calendrier de lancement d'outil, des « conditions Fumiaki Shigemitsu, Directeur de Technologie de NuFlare. Pour Carl Zeiss le système d'inscription neuve remplit parfaitement le portefeuille de la métrologie de masque, de la révision et des outils de réglage. « Le premier accouchement d'un système de PROVE™ est une étape importante dans le projet. Avec NuFlare en tant que d'abord abonnée nous pouvons déterminer une fin lions entre la plus défunts mesure d'inscription de rétablissement et auteurs de masque d'e-poutre. Les générateurs de Masque et les fabs de disque tireront bénéfice de manière significative des masques donnants droit avec des erreurs d'inscription inférieures, » explique M. Oliver Kienzle, Directeur Général de division de Systèmes de Métrologie de Semi-conducteur de Karl Zeiss. Le système L'Élément clé de PROVE™ est la diffraction limitée, bloc optique de haute résolution de représentation fonctionnant à 193 nanomètre - correspondant à la métrologie d'à-longueur d'onde pour la majorité d'applications de photomask d'actuel et de futuux. Il fournit l'illumination flexible pour la représentation maximum de contraste et active l'analyse d'emplacement de configuration de « dans-matrice » sur la configuration de production. Le concept ouvert avec l'utilisation de la longueur d'onde de 193 nanomètre active un NA plus élevé pour des applications sans pellicle, y compris les masques ultra-violets (EUV) extrêmes. Source : http://www.smt.zeiss.com/ Download PDF CopyView Supplier Profile