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Oxford Instruments Plasma Technology annoncent pour 2011 Dates des séminaires
Après le succès du séminaire de l'an dernier et programme de l'atelier, Oxford Instruments technologie des plasmas seront à nouveau organiser plusieurs événements similaires cette année en collaboration avec les principaux instituts de recherche et universités dans le monde. Les conférenciers proviennent des universités d'accueil et d'un certain nombre d'autres instituts et l'industrie, en plus de processus et des experts des applications d'Oxford Instruments technologie plasma, fournissant leur connaissance approfondie du sujet choisi. Oxford Instruments co-organise un certain nombre de séminaires avec succès chaque année Du 11 mars au 12 2011 - Nanoélectronique: Croissance, dépôt, gravure Organisé par l'Institut des semi-conducteurs Académie chinoise des sciences (IOS) et Oxford Instruments à Pékin 30 juin 2011 - partenariat pour la création des connaissances - du financement à des résultats Atelier organisé par l'Université de Southampton & Instruments Oxford à l'Université de Southampton Juillet 14 au 15 2011 - New Frontiers in plasma Nano structuration Hébergé par la Fonderie Moléculaire, Laboratoire national Lawrence Berkeley, Californie, Etats-Unis La société envisage également d'organiser un séminaire / atelier en France, date à confirmer. Les programmes sont disponibles, et pour plus d'informations sur chaque séminaire et / ou pour vous inscrire à un email de lieu: email@example.com Oxford Instruments etch, le dépôt et la croissance des systèmes fournissent des solutions de traitement pour l'ingénierie des micro et nanométriques de matériaux pour semi-conducteurs, l'optoélectronique, les MEMS & microfluidique, de haute qualité de revêtement optique et de nombreuses autres applications en micro-et nanotechnologies. Download PDF CopyView Supplier Profile