Trisilane
# Trisilane

Le trisilane est un composé chimique de formule $Si_3H_8.$ Ce silane est l'analogue structurel silicié du propane $C_3H_8.$ Il se présente sous la forme d'un liquide incolore pyrophorique ayant une pression de vapeur élevée, d'où un risque explosif important.

Le trisilane a été obtenu pour la première fois par Alfred Stock en faisant réagir de l'acide chlorhydrique HCl sur du siliciure de magnésium $Mg_2Si^,.$ Cette réaction a par la suite été exploitée par Friedrich Wöhler et Heinrich Buff, puis approfondie par Henri Moissan et Samuel Smiles en 1902.

Le trisilane peut également être obtenu en faisant réagir de l'octachlorotrisilane $Si_3Cl_8$ avec de l'aluminohydrure de lithium $LiAlH_4$ ou par pyrolyse du disilane $Si_2H_6$ :

    $Si_3Cl_8$ + 2 $LiAlH_4$ ⟶ $Si_3H_8$ + 2 LiCl + 2 $AlCl_3.$

Comme les autres silanes, il peut également être isolé par distillation fractionnée du mélange de silanes obtenu par décomposition acide du siliciure de magnésium ou par décharges électrostatiques sur du silane $SiH_4.$

La principale propriété du trisilane est son instabilité thermique. Il se décompose en laissant un dépôt de silicium et en libérant du silane selon l'équation idéalisée :

    $Si_3H_8$ ⟶ Si + 2 $SiH_4.$

Le trisilane a été étudié dans le cadre de l'application de couches minces de silicium dans l'industrie des semiconducteurs. La thermolyse du trisilane permet d'obtenir des nanofils de silicium.

