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Molecular Imprints, Inc. logo. (PRNewsFoto/Molecular Imprints, Inc.)
- La technologie Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) de Molecular Imprints devrait être utilisée pour la production de mémoire à semi-conducteurs à l'horizon 2014
AUSTIN, Texas, 24 septembre 2012 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints, Inc. (MII), leader technologique dominant le marché des solutions et des systèmes de modélisation nanométrique, a annoncé aujourd'hui avoir reçu un bon de commande pour plusieurs modules par impression. Ces derniers seront intégrés aux moteurs pas-à-pas des équipements semi-conducteurs de l'entreprise. La dernière technologie brevetée de MII, Jet and Flash™ Imprint Lithograhy (J-FIL™), fait partie de ces modules : cette technologie est suffisamment performante pour permettre la fabrication de mémoires de pointe à semi-conducteurs à grande échelle.
(Logo : http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO) « Cette commande de plusieurs modules témoigne de la confiance de nos clients dans le fait que J-FIL entre dans les dernières étapes de lancement de fabrication », a expliqué Mark Melliar-Smith, PDG de Molecular Imprints. « Nos partenaires commerciaux et d'équipements, ainsi que nos équipes internes, ont réussi à coordonner le développement de leurs activités et ont réalisé d'énormes progrès au cours de l'année qui vient de s'écouler, et ce plus particulièrement en matière de défectuosité et de coût de possession. Nous avons hâte de passer à l'étape suivante, celle de la commercialisation de notre technologie J-FIL, et de proposer la feuille de route des mémoires à semi-conducteurs dans les années à venir. »
La technologie J-FIL de l'entreprise présente une modélisation à 24 nm, avec une rugosité de bord hors du commun (< 2 mm LER, 3 sigma) et une uniformité de dimension critique (1,2 nm CDU, 3 sigma), ainsi qu'une extensibilité jusqu'à 10 nm, le tout grâce à un processus simple de modélisation à étape unique. La technologie J-FIL dispose d'atouts innés de coût de possession obtenus en évitant les sources lumineuses EUV d'une puissance limitée, les miroirs et lentilles optiques complexes et les difficultés liées aux systèmes d'imagerie utilisant des résines photosensibles ultrasensibles. Ces atouts font de J-FIL une technologie compatible avec la fabrication de mémoire à semi-conducteurs. À propos de Molecular Imprints, Inc.Molecular Imprints, Inc. (MII) est le leader technologique en matière de solutions et de systèmes de modélisation nanométrique alliant faible coût de possession et haute résolution. MII s'appuie sur sa technologie innovante, appelée Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™), pour se hisser au rang de numéro un technologique sur le marché des solutions de modélisation à grande échelle pour mémoires à semi-conducteurs, tout en favorisant l'émergence de marchés dans les domaines de l'affichage, l'énergie propre, la biotechnologie et bien d'autres industries. MII encourage la modélisation nanométrique en proposant une solution complète de lithographie par impression à la fois abordable, compatible et extensible à des dimensions inférieures à 10 nanomètres. Pour en savoir plus ou pour nous suivre sur Twitter, rendez-vous sur www.molecularimprints.com.
Contact Relations presse de l'entreprisePaul HofemannMolecular Imprints, email@example.com SOURCE Molecular Imprints, Inc. RELATED LINKS
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