Tétrafluorure de silicium
# Tétrafluorure de silicium

Le tétrafluorure de silicium, également appelé tétrafluorosilane, est un composé du silicium à géométrie tétraédrique et de formule $SiF_4,$ il s'agit donc d'un halogénure de silicium (à l'instar du tétrachlorure de silicium de formule $SiCl_4).$

À température et pression ambiantes, ce composé se présente sous forme d'un gaz incolore. Sa plage d'existence à l'état liquide est singulièrement étroite : entre −90 °C et −86 °C.

Ce composé inorganique a été synthétisé pour la première fois en 1812 par le chimiste anglais John $Davy^,,$ frère du célèbre physicien et chimiste Sir Humphry Davy.

## Production

Le traitement thermique de l’hexafluorosilicate de baryum $(BaSiF_6)$ à des températures supérieures à 300 °C permet de synthétiser le tétrafluorure de silicium à l'état gazeux ainsi que du fluorure de baryum $(BaF_2)$ en tant que résidu solide.

## Utilisation

En microélectronique, le tétrafluorure de silicium est utilisé :

* dans le cadre de l'implantation ionique ;
* en tant qu'agent de nettoyage ;
* et, en conjonction avec le silane $(SiH_4),$ pour le dépôt de silice fluorée par PECVD.
