Tétrasilane
# Tétrasilane

Le tétrasilane est un composé chimique de formule $Si_4H_{10}.$ Ce silane est l'analogue structurel du n-butane $C_4H_{10}.$ Il se présente comme un liquide pyrophorique incolore à l'odeur repoussante qui tend à s'enflammer spontanément dans l'air au-dessus de 54 °C. Il se décompose lentement à la lumière du jour en libérant de l'hydrogène $H_2$ et des silanes plus légers.

On peut produire un mélange de silanes en faisant réagir du siliciure de magnésium $Mg_2Si$ avec des acides dilués, par exemple de l'acide phosphorique $H_3PO_4$ à 20 % de 50 à 60 °C. Le mélange obtenu peut contenir des silanes $Si_nH_{2n+2}$ jusqu'au terme n = 15, avec de l'isotétrasilane $(SiH_3)_3SiH$ en plus du n-tétrasilane. La réaction du siliciure de magnésium avec de l'acide chlorhydrique à 25 % donne 40 % de silane $SiH_4,$ 30 % de disilane $Si_2H_6,$ 15 % de trisilane $Si_3H_8,$ 10 % de tétrasilane $Si_4H_{10}$ et 5 % de silanes supérieurs. Ce mélange peut être séparé par distillation fractionnée.

On obtient également des silanes supérieurs à partir du silane sous l'effet de décharges électrostatiques.

Le tétrasilane se dismute en 3-silylpentasilane et disilane sous l'effet de la lumière :

    2 $Si_4H_{10}$ ⟶ $Si_2H_6$ + $H_3Si–SiH(Si_2H_6)_2.$

L'isotétrasilane peut être obtenu en chauffant le n-tétrasilane dans du xylène en présence de chlorure d'aluminium :

    $H_3Si–SiH_2–SiH_2–SiH_3$ ⟶ $H_3Si–SiH(SiH_3)–SiH_3.$
