text: Nanoscribe GmbH: True 3D Laser Lithography - IP-Q Fotolack erweitert Material-Palette
  IP-Fotolacke
  Maskenlose Lithografie
  Zellgerüste
  Mechanische Mikrostrukturen
  Mikro Rapid Prototyping
  Positivlack Strukturen
  IP-Q Fotolack erweitert Material-Palette
  Mit dem Photonic Professional GT2 bringt Nanoscribe auch den neuen Fotolack IP-Q für den mesoskaligen 3D-Druck auf den Markt. IP-Q ermöglicht die Herstellung von Objektvolumen bis zu mehreren Dutzend mm³ mit Mikrometergenauigkeit. So bietet die additive Herstellung auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation auch eine hohe Präzision und Geschwindigkeit beim Drucken von mesoskaligen Teilen mit Millimeterabmessungen. Zu den Vorteilen des 3D-Mikrodrucks für Millimeterskalenteile gehört das kostengünstige Rapid Prototyping komplexer Strukturen und der Kleinserienfertigung.
  Damit erweitert IP-Q das Sortiment der IP-Fotolacke für unterschiedliche Anforderungen wie Submikrometer-Strukturgrößen, überhängende Elemente, Oberflächen in optischer Qualität und die schnelle mesoskalige Fertigung bis in die Makroskala. Die 3D-Drucker Photonic Professional GT2 sind als offene Systeme für eine breite Materialvielfalt konzipiert worden. Die IP-Fotolacke sind für die Zwei-Photonen-Polymerisation und ihre Verwendung mit Nanoscribes 3D Drucker optimiert.
  Es gibt auch bestimmte Anwendungen mit Anforderungen, die nicht durch gedruckte Polymerteile bedient werden können. In diesen Fällen besteht die Möglichkeit, durch Post-Print-Prozesse wie Depositions-, Abform- und Replikationstechniken die 3D-Strukturen in andere Kunststoffe wie PDMS (Polydimethylsiloxan), in Keramik, Metalle oder Glas zu transformieren.
  Lesen Sie mehr über Druckmaterialien und Post-Print-Prozesse für die 3D Mikrofabrikation: Materials Overview.