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  Intel verkündet Durchbruch bei neuer Chip-Technologie
  29.01.2007 | 09:40 Uhr | Peter Müller
  Der weltgrößte Halbleiterhersteller Intel hat einen Durchbruch bei einer neuen Technologie verkündet, die die Geschwindigkeit von Computerchips deutlich erhöhen und den Strombedarf der Chips gleichzeitig spürbar senken soll.
  «Wir sehen die größte Veränderung in der Transistor-Technik seit den 60er Jahren», sagte Mark Bohr, Leiter der Abteilung für Halbleiterfertigung bei Intel und einer der Vordenker des Konzerns, am Samstag in Santa Clara.
  Dabei will Intel die Herstellung seiner leistungsstärksten Prozessoren auf 45 Nanometer von bisher 65 Nanometer Strukturbreite umstellen. Den neuen Prozessorkern «Penryn» hatte der Chipgigant bereits im Januar 2006 angekündigt. Bei diesen winzigen Strukturen bestand bislang die Gefahr, dass so genannte Leckströme mit einen unkontrollierten Stromfluss im Chipkern auftreten. Mit Hilfe des silberfarbigen Metalls Hafnium wollen die Intel-Ingenieure dies nun verhindern. Zwei weitere Stoffe, die in dem neuen Intel-Rezept die bislang benutzten Chip-Zutaten Siliziumdioxid und polykristallines Silizium ablösen, hält Intel aus Wettbewerbsgründen geheim. Mit der neuen Technologie kann Intel die Größe der Chips fast halbieren oder die Anzahl der Transistoren in den Chips deutlich erhöhen. Die neuen Mikroprozessoren sollen vermutlich Ende 2007 auf den Markt kommen.
  Unklar blieb am Wochenende, ob sich Intel mit der neuen Technologie signifikant von seinen Wettbewerbern absetzen kann. IBM kündigte am Samstag an, ähnliche Materialien beim Umstieg auf einen neuen 45-Nanometer-Prozess zu nutzen, der gemeinsam mit Intel- Konkurrent AMD, Toshiba und Sony entwickelt worden sei. Die neuen Verfahren würden von Mitte 2008 an bei IBM eingesetzt. Auch Texas Instruments arbeitet nach Angaben eines Firmensprechers an einem neuen Produktionsverfahren mit 45 Nanometern, bei dem Hafnium eingesetzt werde. (dpa)