Geräte und Werkstoffe für Plasmaätzverfahren, chemische Bedampfungsverfahren (CVD-Verfahren), Lithographie, Maskenlithographie, Masken und Fotolacke.
Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;