Speziell entwickeltes Gerät, um eine Rauheit der aktiven Oberfläche eines bearbeiteten Wafers mit einem 2σ-Wert von maximal 2 µm (Mittigkeitsabweichung (Gesamt-Messuhrausschlag)) zu erzielen;
Matériel spécialement conçu pour obtenir une rugosité de surface active d'une plaquette traitée d'une valeur de deux sigma égale ou inférieure à 2 micromètres, en lecture complète;