Speziell entwickeltes Gerät, um eine Rauheit der aktiven Oberfläche eines bearbeiteten Wafers mit einem 2σ-Wert von maximal 2 µm (Mittigkeitsabweichung (Gesamt-Messuhrausschlag)) zu erzielen;
Specially designed equipment for achieving a surface roughness of the active surface of a processed wafer with a two-sigma value of 2 micrometer or less, total indicator reading (TIR) ;