,,Enne, kui grafeeni ülihäid elektroonilisi omadusi seadmetes rakendada võimalik on, tuleb välja töötada meetod mittejuhtivale substraadile kinnitunud homogeense struktuuriga grafeenkilede valmistamiseks," ütles Yuegang Zhang, materjaliteadlane Lawrence Berkeley National Laboratory'st. Praegused tootmismeetodid, mis põhinevad mehaanilisel kraapimisel(grafiidilt kraabitakse maha kiht aatomeid - grafeen, toim.) või ülikõrgel vaakum karastamisel on siiski tööstusliku tootmise jaoks ebasobivad. Lahusepõhisel sadestusmeetodil ning keemilisel redutseerimisel saadud grafeenkiled on halva või ebaühtlase kvaliteediga.