Im Rahmen eines hochtechnologischen Forschungslabors erklären Sie Schritt für Schritt, wie Sie einen topologischen Supraleiter mit dem Prozess der Nähe-induzierten Supraleitung herstellen.
Die Herstellung eines topologischen Supraleiters durch Nähe-induzierte Supraleitung erfordert mehrere Schritte: Bereiten Sie ein Substrat: Beginnen Sie mit der Herstellung eines Substratmaterials, wie einem dünnen Film eines Hochtemperatur-Supraleiters oder eines 2D-Materials, wie Graphen. Legen Sie eine normale Metallschicht: Deposition einer normalen Metallschicht, wie Aluminium, auf dem Substratmaterial. Diese Schicht wird später verwendet, um Supraleitung im topologischen Material zu induzieren. Deposition des topologischen Materials: Als nächstes, Ablagerung der topologischen Material, wie ein topologischer Isolator, auf einer Temperatur unterhalb seiner kritischen Temperatur, an dem Punkt, es wird ein Supraleiter. Dies bewirkt, Supraleitung in der Nähe Material durch die Herstellung von Nähe-Effekt induziert werden. Muster der Probe: Die normale Metallschicht wird dann auf eine Temperatur gekühlt, an dem Punkt, es wird ein Supraleiter. Dies führt dazu, dass Supraleitung induziert werden in der Topologie Material über Nähe-Effekt. Muster: Mit einer Kombination von Photolithographie, Ätzung, und andere Techniken, die Struktur charakterisieren Sie das Muster spektroskopiert werden.